晶圆
制造芯片的过程十分复杂，关键的步骤是沉积、光刻胶涂覆、刻蚀、离子注入和封装。而这些步骤都离不开超纯水，因为芯片生产过程需要超纯水进行清洗。半导体超纯水系统是工业水处理系统中设计施工最为复杂，材料选择最为讲究，运行控制最为精密的系统，包括了众多的子系统，功能单元及配套系统，所以半导体超纯水的制备过程可以用“千锤百炼”来形容。
产品描述
碳化硅半导体行业超纯水：首先，我们采用先进的生产工艺和设备，确保产品的纯度和稳定性。我们的超纯水经过多道过滤和纯化步骤，去除了其中的杂质和有害物质，确保了产品的高纯度。其次，我们的产品具有良好的导电性能和热传导性能，适用于碳化硅半导体行业的生产和研发。此外，我们的超纯水还具有良好的溶解性和稳定性，可以有效地与其他材料进行反应和混合。
工艺流程
现场实况
Q≥150m³/h
电阻率≥18.25MΩ.cm
可溶硅≤3ppb
溶解氧≤25ppb
TOC≤20ppb
B 离子≤50ppt，其它金属离子(Cu、Fe、Na、Al 等)≤20ppt
Particles (>0.05m)<500pcs /L
BIM模型
湖州项目-BIM 1F
湖州项目-BIM 2F
